清洗溶剂

电子产品 蚀刻残留物

我们提供广泛的稀释氢氟化物(HF)比例，特种缓冲氧化物蚀蚀剂(BOE) -有/没有表面活性剂，混合酸蚀蚀剂(MAE)和特种金属蚀蚀剂产品摘要•缓冲氧化物蚀蚀剂•富士胶片具有先进的能力，精确混合缓冲蚀蚀剂与严格的检测规格范围，可用于多种NH4F:HF比例•用于蚀刻SiO2薄膜•用于预扩散和预金属化表面制剂•由高纯度49%氢氟酸和高纯度40%氟化铵配制•可使用和不使用表面活性剂•稀HF•富氏具有先进的能力，精确混合稀释HF与严格的测定规格范围•斑点蚀刻•用于去除蚀刻铝-硅-铜后留下的残余硅结•混合酸蚀刻剂•用于硅(单晶和多晶)的各向异性蚀刻•专用垫蚀刻剂•用于蚀刻沉积的热裂解和溅射的最终钝化玻璃，以暴露半导体键合板用于线键合•可使用和不使用我们的OHS表面活性剂•专用金属蚀刻剂为了选择性去除特定的金属层，富士胶片提供各种专用蚀刻剂，包括•专用铝蚀刻剂:用于铝金属化层的浸渍蚀刻剂-可使用或不使用富士铝蚀刻表面活性剂(AES)•铬蚀刻:用于铬层图案的特殊混合物