箱式炉

真空 自动 工业

炉炉是完全自动化的便利工具和设计两个过程有不同的可控加热区完全根据客户能力和需求。我们的设备是为这些晶片类型的直径100,150,200,300毫米。真空炉Vegatec设计和制造真空炉与所有实验室的自动化系统和微电子产业,纳电子学和光伏发电。这些熔炉如下;低压化学汽相淀积(LPCVD)过程;氧化氮化硅teo低温氧化(LTO)高温氧化(HTO)掺杂多晶硅硅Oxinitride多晶硅Silanisation等离子体增强化学汽相淀积(PECVD) "流程;硅氧化硅氮化硅Oxinitride磷和硼掺杂真空炉的真空退火一般特征易于使用和易于维护由于用户友好的设计炉腔和悬臂式样品持有人的高纯石英可以在类10洁净室工作的能力在真空下工作到10 - 6寿命长时间高质量组件单独控制加热区容易使用的自动化接口可叠起堆放的紧凑设计的炉管在同一时间不同的过程能力的手动或自动装载容量根据每个客户实验室或工业规模